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哈西奈德乳膏
哈西奈德乳膏

哈西奈德乳膏

处方 医保

通用名称:哈西奈德乳膏

批准文号:国药准字H12020695

生产企业: 天津金耀药业有限公司

功能主治:接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

温馨提示:外观包装仅供参考;请按药品说明书或者在药师指导下购买和使用。

【主要成分】:
本品主要成份为:哈西奈德(氯氟舒松、哈西缩松)。其化学名称为:16α,17-[(1-甲基亚乙基)双(氧)]-11?-羟基-21-氯-9-氟孕甾-4-烯-3,20-二酮。 分子式:C24H32ClFO5 分子量:454.9
【功能主治】:
接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。
【用法用量】:
外涂患处每日早晚各一次。
【药品相互作用】:
null
【注意事项】:
null
【不良反应】:
null
【特殊人群用药】:
儿童注意事项: 应为面积,短期应用,一旦消退迅速停药,一岁以内儿童尽量不用此药。 妊娠与哺乳期注意事项: 尚无人局部用药致畸作用的研究,妊娠期应慎用。外用经皮吸收大量时可从乳汁排泄,哺乳期慎用。 老人注意事项: 遵医嘱。

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