日光性皮炎的发生主要与紫外线照射、光敏物质影响以及皮肤敏感等因素有关，常见于长时间暴露于强烈阳光的人群。该疾病属于皮肤对紫外线异常敏感引发的炎症反应，具体病因可分为以下几类：
1、紫外线照射
日光中的中波紫外线是主要诱因，其能量可穿透表皮层，直接损伤角质形成细胞和朗格汉斯细胞，导致细胞DNA损伤并释放炎症介质。这种光毒性反应会引发局部血管扩张，表现为边界清晰的红斑，严重时可能出现水肿性红斑或水疱，伴有灼热刺痛感。
2、光敏物质
部分患者在接触光敏性物质后，经紫外线照射会发生光变态反应。常见光敏物包括四环素类抗生素、磺胺类药物、噻嗪类利尿剂等口服药物，以及柑橘类精油、檀香油等化妆品成分。这些物质能与皮肤蛋白结合形成抗原，诱发Ⅳ型变态反应，通常在接触后24-72小时出现丘疹、水疱等皮损。
3、皮肤敏感
肤色较浅的I-III型皮肤人群因黑色素含量较低，对紫外线防护能力较弱。此外，特应性体质或存在红斑狼疮、卟啉病等基础疾病者，皮肤屏障功能受损时更易发病。婴幼儿及老年人因皮肤角质层较薄，也属于高发人群。
对于已发生日光性皮炎的患者，急性期可采用3%硼酸溶液冷湿敷，外搽氢化可的松乳膏或他克莫司软膏。瘙痒明显时可口服氯雷他定片、西替利嗪片等抗组胺药，继发感染时需使用莫匹罗星软膏。日常应严格做好物理防晒，避免在10:00-16:00紫外线强烈时段外出，必要时可提前2小时使用SPF50+的广谱防晒霜。若反复发作或伴有全身症状，建议到皮肤科进行光斑贴试验等专项检查。